报告题目：After 193i；下一代纳米光刻技术的开发和应用
内容简介：在芯片技术的发展过程中，器件的特征尺寸越来越小，为了达到纳米精度要求，光刻技术成为关键。投射光刻技术是目前光刻工艺的主流。随着加工器件的日益精细和尺度不断缩小，这种传统光刻技术也变得越发复杂，而这也导致了器件的光刻成本不断增加。最新的ASML EUV光刻机售价已经达到一亿美元。因此，许多研究机构都在努力寻找可替代的低成本光刻技术。本报告将着重介绍期中的等离子直写技术和纳米压印技术。
报告地点：物理科学与技术学院7A401
报告时间：2019年10月14日上午10:30-11:30（星期一）
报告人：王亮 (中国科学技术大学教授/博士生导师)
报告人简介：王亮博士于全美最佳工程学院之一的美国普渡大学机械工程系获得博士学位。毕业后前往德克萨斯州澳士汀参与创立了分子制膜公司(Molecular Imprints)，是该公司最早期的20名员工之一,该公司后成功被日本佳能公司收购.2011年初赴美国硅谷加入半导体微纳设备制造商科林研发公司（Lam Research Corp， 纳斯达克上市代码：LRCX）担任主任工程师，负责与全球最大的半导体芯片供应商台积电（TSMC）共同开发20nm的芯片工艺。2013年初进入IBM 于纽约上州的芯片基地， 任职技术经理负责14nm芯片的开发。2014年全职回国任中国科学技术大学教授/博士生导师.
王亮博士研究方向为纳米光学和半导体光电器件。兼任安徽省光电子重点实验室副主任，中国光电子协会和中国仪器仪表协会委员。近年有30多篇学术论文发表在国际刊物上，被引用超过600次。申请和获得国际专利20余项，主持国家自然基金重大项目子课题和面上项目，主持科技部重点研发计划课题，参与国家自然科学基金重点项目。同时应美国科学出版社邀请撰写 “Nanomanufacturing” 一章。应邀为多个国际权威杂志的特约审稿人包括Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等。
（联系人：邹开顺 审稿人：廖帮全）
物理科学与技术学院
2019年10月9日